CIF烤胶机 参考价：面议
烤胶机是一种控温加热 设备。主要用于半导体硅片， 载玻片，晶片，基片，ITO 导 电玻璃等工艺的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。
CIF等离子清洗机F系列 参考价：面议
CIF 推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。 产品性能稳定，操作简单方便，易维护。
扫描电镜等离子清洗机 参考价：面议
CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程等离子清洗源 设计，清洗快速、高效、低轰击损伤，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 体内碳氢化合物的清洗。
透射电镜样品杆清洗机 参考价：面议
CIF 透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计，清洗快速高效， 低轰击损伤， 同时可实现常规等离子清洗。 主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子...
粉体等离子清洗机 参考价：面议
CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品...
CIF匀胶旋涂仪 参考价：面议
CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。
CIF透射电镜样品杆存储仪 参考价：面议
CIF 透射电镜（TEM）样品杆存储仪采用无油隔膜泵，通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境，特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除...
CIF中试型等离子清洗机CPC-10系列 参考价：面议
CIF推出全新一代 CPC-10系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比...
CIF生产型等离子清洗机 参考价：面议
CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富， 且真空腔体里可分层， 适合大多数生产场景清洗，活化、刻...
CIF实验室型等离子清洗机 参考价：面议
CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高...
CIF实验室型等离子清洗机CPC-F系列 参考价：面议
CIF 推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。 产品性能稳定，操作简单方便，易维护。
RIE反应离子刻蚀机 参考价：面议
CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室...
CIF匀胶机 参考价：面议
CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片...
匀胶机 参考价：面议
Spin Coater匀胶机进行滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。粘度...
实验室注射泵Squirt Sampling Pump 参考价：面议
CIF为科研实验专门推出一种实验室注射泵，高精度微量流体传输注射泵-SP-2型注射泵。它采用高强度航空轴承、优异的控制系统和精密的机械结构，使用寿命更长，精度更...
臭氧中和器 参考价：面议
CIF臭氧中和器（UVO-N）是紫外臭氧清洗机配套的臭氧去除设备。主要是通过纳米级金属氧化物催化剂分解臭氧，以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去...
CIF等离子体汽化接枝仪 参考价：面议
CIF等离子体汽化接枝仪（CPV-G）为等离子体表面处理仪的配套设备，主要用于将液态原料汽化并以一定的流量输入等离子体表面处理仪的反应腔内，以进行材料表面的接枝...
紫外臭氧清洗机 参考价：面议
紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，...
CIF-Spin Processor 参考价：面议
CIF-Spin Processor转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材...
CIF-UV Ozone Cleaner 参考价：面议
紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，...
CIF紫外臭氧清洗机 参考价：面议
紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。
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